Karbur tas-Silikon Għal Materjali Metallurġiċi

Il-materjal tal-karbur tas-silikon użat fil-produzzjoni tal-azzar għandu wkoll effett tajjeb ta 'promozzjoni fuq it-tlestija tal-proċess tat-tidwib, li mhux biss għandu effett tajjeb ta' deossidazzjoni, iżda jgħin ukoll biex inaqqas il-ħin tat-tidwib u jtejjeb il-kwalità tal-prodotti tal-azzar. L-użu industrijali tal-materjal tal-karbur tas-silikon jista 'wkoll inaqqas il-konsum tal-materja prima, jevita t-tniġġis għall-ambjent, itejjeb b'mod effettiv il-kundizzjonijiet tax-xogħol, u l-proċess oriġinali meta mqabbel mal-proprjetajiet fiżiċi u kimiċi effett ta' deossidazzjoni aktar stabbli.

L-azzar li jagħmel il-karbur tas-silikon għandu reżistenza għolja għall-ilbies, materjal iebes, reżistenza għall-korrużjoni u vantaġġi ta 'saħħa ta' temperatura għolja, jintuża f'varjetà ta 'reżistenza għall-ilbies, reżistenza għat-temperatura għolja u partijiet oħra tax-xogħol. Il-karbur tas-silikon użat fil-produzzjoni tal-azzar huwa tip ta 'semikonduttur f'temperatura tal-kamra u għandu konduttività tal-impurità. Aktar ma tkun għolja l-purità tal-karbur tas-silikon, iktar tkun għolja t-temperatura, ir-reżistenza tonqos b'mod naturali.

Skont l-impuritajiet differenti li jinsabu fil-karbur tas-silikon, il-konduttività hija wkoll differenti. U l-azzar - tagħmel karbur tas-silikon b'idrofiliċità tajba, radjazzjoni infra-aħmar bogħod, eċċ Karbur tas-silikon huwa adattat ħafna għal berings jew materja prima tal-forn ta 'temperatura għolja, f'varjetà ta' jista 'jinkiseb taħt pressjoni, mhux se jiddewweb, u għandu baxx ħafna attività kimika. Minħabba l-konduttività termali għolja tagħha, l-intensità għolja tal-kamp elettriku u d-densità għolja ta 'kurrent, ħafna nies jippruvaw jużawh biex jissostitwixxu s-silikon fl-applikazzjoni ta' komponenti ta 'qawwa għolja tas-semikondutturi. Fix-xiri ta 'karbur tas-silikon, ovvjament, għandna nagħżlu wkoll manifattur affidabbli. Il-kwalità tal-karbur tas-silikon prodott mill-fabbrika tagħna hija garantita. Inti mistieden tikkonsulta għad-dettalji.