Trab tas-Silikon b'temperatura għolja għal Kisi
Iż-żieda ta 'trab tas-silikon b'temperatura għolja mal-kisi tista' tgħin biex testendi l-ħajja tal-materjal miksi u ttejjeb il-prestazzjoni tiegħu taħt kundizzjonijiet estremi. Tista' wkoll tgħin biex tnaqqas l-ispejjeż tal-manutenzjoni billi timminimizza l-ħtieġa għal tiswijiet jew sostituzzjonijiet frekwenti.
Deskrizzjoni
Deskrizzjoni
Trab tas-silikon b'temperatura għolja jista 'jintuża bħala materjal ta' mili f'kisjiet iddisinjati għal applikazzjonijiet ta 'temperatura għolja. Dan it-tip ta 'trab huwa tipikament magħmul minn silikon ultra-pur u huwa mfassal biex jiflaħ temperaturi estremi mingħajr ma jiddegrada jew jitlef il-proprjetajiet kimiċi tiegħu.
Meta jintuża f'kisi b'temperatura għolja, it-trab tas-silikon jista 'jgħin biex itejjeb l-istabbiltà termali tal-kisi u r-reżistenza għall-ossidazzjoni. Jista 'wkoll itejjeb is-saħħa mekkanika tal-kisi u r-reżistenza għall-ilbies, li jagħmilha ideali għall-użu f'ambjenti industrijali ħarxa.
Trab tas-silikon jista 'jiġi miżjud ma' varjetà ta 'materjali tal-kisi, inklużi kisjiet taċ-ċeramika, kisjiet epossidiċi, u kisjiet tal-polyurethane. Dawn il-kisi jistgħu jintużaw f'firxa ta 'applikazzjonijiet, bħal xfafar tat-turbini, sistemi ta' l-exhaust, u fran industrijali.
Speċifikazzjoni
Formula Kimika: Si
Piż Molekulari: 28.09 g/mol
Purità: 99.9 fil-mija jew ogħla
Dehra: Trab iswed griż
Daqs tal-Partiċelli: 1-10 mikroni jew personalizzati
Erja tal-wiċċ: 10-50 m2/g
Densità: 2.33 g/cm3
Punt tat-tidwib: 1,414 grad
Punt tat-togħlija: 3,265 grad
Konduttività Termali: 149 W/mK
Konduttività Elettrika: 10^-4 S/ċm


Gradi
-200 malji: Id-daqs medju tal-partiċelli huwa ta' madwar 5-10 mikron, u r-rata ta' għarbil ta' 200 malja hija aktar minn 98 fil-mija. Jintuża fil-kożmetiċi, kisi u industriji oħra.
-325 malji: Id-daqs medju tal-partiċelli huwa ta' madwar 1-5 mikroni, u r-rata li tgħaddi ta' screening ta' 325 malji hija aktar minn 98 fil-mija . Jintuża fil-plastik, gomma u industriji oħra.
{{0}} malji: id-daqs medju tal-partiċelli huwa ta 'madwar 0.5-1 mikron, u r-rata tal-passaġġ tal-għarbil ta' 800 malja hija aktar minn 98 fil-mija. Jintuża f'semikondutturi, kisi b'temperatura għolja u industriji oħra.
{{0}} malji: id-daqs medju tal-partiċelli huwa ta 'madwar 0.1-0.5 mikron, u r-rata tal-passaġġ tal-għarbil ta' 1000 malja hija aktar minn 98 fil-mija. Jintuża f'ċeramika high-end, kisi u industriji oħra.
{{0}} malji: id-daqs medju tal-partiċelli huwa ta 'madwar 0.05-0.1 mikron, u r-rata tal-passaġġ tal-għarbil ta' 3000 malja hija aktar minn 98 fil-mija. Jintuża f'materjali elettroniċi, nanomaterjali u industriji oħra.
It-tags Popolari: trab tas-silikon b'temperatura għolja għall-kisi
Ibgħat l-inkjesta
Tista 'Tħobb ukoll
